国内刊号:11-2436/TN
国际刊号:1001-5078
发布日期:
作者:高达
单位:1.华北光电技术研究所,北京 100015;2.重庆嘉陵华光光电科技有限公司,重庆 400700;
关键词:分子束外延;碲镉汞;HgTe/CdTe超晶格
报道了分子束外延生长HgTe/CdTe超晶格结构相关技术。采用HgTe/CdTe超晶格结构进行As掺杂是降低As掺杂元素激活温度的技术路径之一。本文采用分子束外延技术在3 in硅衬底上获得了HgTe/CdTe超晶格结构材料,并采用250℃低温退火获得了激活的原位As掺杂碲镉汞材料。
来源:2023年第9期
《激光与红外》期刊编辑部