国内刊号:11-2436/TN
国际刊号:1001-5078
发布日期:
作者:张轶
单位:华北光电技术研究所,北京 100015;
关键词:铟凸点;离子刻蚀;碲镉汞
介绍了一种用于10 μm小间距碲镉汞探测器铟凸点的制备工艺。新工艺有别于常规的剥离法,采用离子刻蚀手段对金属铟进行精确刻蚀,从而制备出高度大于6 μm且非均匀性小于±5 %的10 μm小间距红外探测器读出电路铟凸点,解决了传统工艺制备小间距铟凸点时高度不够且差异过大、易相互粘连等问题,大幅度提高了小间距红外探测器在互连工艺段的成功率。
来源:2020年第8期
《激光与红外》期刊编辑部