激光与红外

北大核心,CA,JST,CSCD扩展版,WJCI

国内刊号:11-2436/TN

国际刊号:1001-5078

激光与红外杂志2019年第11期:超短激光制备单晶硅光栅结构的热积累效应和实验研究

发布日期:

作者:王中旺

单位:1.苏州科技大学机械工程学院,江苏 苏州 215009;2.苏州市高效与精密加工技术重点实验室,江苏 苏州 215009;

关键词:超短激光;热积累效应;双温方程;单晶硅烧蚀;光栅结构

基金:苏州市科技计划资助项目(No.SYN201703);江苏省研究生科研与实践创新计划项目(No.KYCX18_2552)资助

针对超短激光辐照单晶硅材料制备光栅结构存在表面裂纹的缺陷,采用双温模型数值模拟出热积累效应,并且实验验证不同加工参数下制备的单晶硅表面光栅结构的表面质量。数值模拟出不同超短激光功率下电子温度和晶格温度的变化规律,通过调节不同的加工参数制备出单晶硅表面光栅结构沟槽,采用超景深三维显微镜对其表面形貌分析。结果表明:当超短激光的输出功率增大时,激光热驰豫时间变大,增大了非平衡状态下激光的烧蚀强度。单晶硅表面的不平整凹坑造成超短激光的反射和散射,从而使得烧蚀后存在凹坑,造成单晶硅表面的损伤溶蚀。当加工速度和加工次数一定时,增大激光的输出功率可以提高超短激光制备光栅结构的加工效率,但过大的激光功率反而造成光栅结构沟槽两侧出现溶蚀凹坑。

来源:2019年第11期

《激光与红外》期刊编辑部

查看激光与红外杂志2019年第11期

联系我们

  • 地址:北京市朝阳区酒仙桥路4号十一所院内
  • 电话:010-84321137
  • E-mail:paper@laser-infrared.com

咨询工作人员